主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最(zuì)大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最(zuì)高值和最低值(zhí)可獨立設置。
B輸(shū)出電壓範(fàn)圍(wéi):-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形(xíng)波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製(zhì)/模擬(nǐ)量接口(kǒu)控製,可選配RS485通訊接口。
采用先(xiān)進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或(huò)MOSFET作為功率開關器件(jiàn),
體積(jī)小、重量輕、功(gōng)能全、性能穩定可靠(kào),生產工藝(yì)嚴格完善。
該係列產品采用先進(jìn)的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放(fàng)電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保(bǎo)證了(le)靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參(cān)數均可大範圍連續調節;
方(fāng)便維護,可靠性(xìng)高;
PLC接口和RS485接口擴(kuò)展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸(shū)出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可(kě)變磁磁場,使多弧輝光(guāng)由原來的集中放電(diàn)變為均勻放電,提高工件膜層質量(liàng)

真空鍍膜電(diàn)源(yuán)廠家告訴你高頻開關電(diàn)鍍電源應用(yòng)在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣闊的(de)市場前景。但產品(pǐn)主要(yào)局限(xiàn)於1500A以(yǐ)下的中小功(gōng)率領域,在國內也隻有少(shǎo)量廠家生產,從技術角度看主要限於硬開關變換模式和模擬控(kòng)製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全(quán)麵推廣(guǎng)應用(yòng)開關式電源(yuán)的景況(kuàng)具有較(jiào)大差距。
真空鍍膜是指(zhǐ)在高真空(kōng)的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣(yuán)體)表麵而形成薄膜的(de)一種方(fāng)法。
真空鍍(dù)膜這一塊是真空應用(yòng)領域的重要方麵,在真空(kōng)中(zhōng)以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用(yòng)起來,通過吸收分(fèn)子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高(gāo)新技術,在科學研究和實際生產中,為(wéi)薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用(yòng)合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基(jī)體等等)進行凝固並沉(chén)積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就(jiù)可想而知(zhī),眾(zhòng)所周知,在一些材料的(de)表麵上鍍上一層薄膜,就可以使這(zhè)種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性(xìng)能並且是嶄新的;