浙江MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改（gǎi）善靶麵電荷積累現象，減小濺射表麵的（de）打火次數，提高膜層質量。
   B 具（jù）有平均電源穩定功能（néng），具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控（kòng）製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品（pǐn）采用先進（jìn）的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極（jí）佳的負載匹配能力，既保（bǎo）證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高（gāo）了靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化控製。

主要用途：

單（dān）極脈衝磁控濺射（shè）適用於金屬、合金及石墨等（děng）靶材（cái）鍍製金屬膜、碳膜和部分（fèn）氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行（háng）預清洗，這種清洗要（yào）求很高，達到分子級。在清（qīng）洗槽中分別放置各種清洗（xǐ）液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾（jī）再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是（shì）在真空艙內，在（zài）此過程中要（yào）特（tè）別注意（yì）避免空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片（piàn）表麵。最後的清洗是在真空（kōng）艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的（de）表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜（mó）。

真空（kōng）鍍膜電（diàn）源為什（shí）麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯（xiǎn）的效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指在高真（zhēn）空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸（zhēng）發並凝結於鍍件（金屬、半（bàn）導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種（zhǒng）方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學鍍膜是指在光學零件表（biǎo）麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零（líng）件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍（dù）膜。