主要型號:
型(xíng)號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電(diàn)流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點(diǎn):
A 可選(xuǎn)擇三角波、矩形波、正弦(xián)波三種波(bō)形,波形的最高值(zhí)和最低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形(xíng)頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模(mó)擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術(shù),使(shǐ)用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小(xiǎo)、重量輕、功能全、性能穩定可(kě)靠,生產(chǎn)工(gōng)藝嚴格完(wán)善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保(bǎo)證鍍膜工藝的重複性,
並且具有抑製靶材弧光(guāng)放電(diàn)及抗(kàng)短路功能,
具有極佳的負載匹配能(néng)力(lì),既保證了靶麵(miàn)清洗工藝的穩(wěn)定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和(hé)RS485接口擴(kuò)展功能,方便實現自動(dòng)化控製(zhì)。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧(hú)靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集(jí)中放電變為均勻放電,提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表(biǎo)麵處理及小功率(lǜ)範圍內的(de)國內市場已經接受,具有廣闊的市場(chǎng)前景(jǐng)。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技術(shù)角度看主要限於硬(yìng)開關變換模式(shì)和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝(yì)結構(gòu)等方麵具有明顯的(de)局限性,同焊接等領域全麵(miàn)推廣應用開關式電(diàn)源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬(shǔ)材料,使其蒸(zhēng)發並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而(ér)形成薄膜的一(yī)種方法。
真空鍍膜(mó)這一塊(kuài)是真空(kōng)應用領域的(de)重要方麵,在真(zhēn)空中以真空技術為基礎,把(bǎ)物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電(diàn)子束、等離子束、射(shè)頻和磁控等一係列高新技術,在科(kē)學研究和(hé)實際生產中,為薄(báo)膜製備提供一種(zhǒng)新工藝,簡單的一點來說,要在真空(kōng)中利用合(hé)金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片(piàn)、稱基板、基(jī)體等等)進行凝固並沉積,這(zhè)種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電(diàn)源(yuán)就可想而知,眾所周知,在一(yī)些材料的(de)表麵上鍍上一層薄膜,就可以使(shǐ)這種材料具有多種性能,例(lì)如良好的物理和化學(xué)性能並且是嶄新的;