江（jiāng）蘇MS係列勵磁多波形電（diàn）源

主要型號：

主要特點（diǎn）：
   A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的最高值和最低值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形（xíng）頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝（yì）嚴格完（wán）善。
該（gāi）係列產品采用（yòng）先進（jìn）的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又提（tí）高了（le）靶麵清洗速（sù）度；
主（zhǔ）要參（cān）數均可大（dà）範圍連（lián）續調節；
方（fāng）便維（wéi）護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能（néng），方便實現自動化控製（zhì）。

主要用途：

MS係列勵磁多（duō）波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過（guò）驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性（xìng）可變磁磁場，使多（duō）弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電，提高工件膜（mó）層質（zhì）量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開（kāi）關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小（xiǎo）功率範圍內的（de）國（guó）內（nèi）市場已經接受，具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域，在（zài）國內也隻有少量廠（chǎng）家生產，從技術角度看主（zhǔ）要限於硬開關變換模式和模擬控製（zhì）方式，可靠性、EMC及工藝結（jié）構等方麵具有明（míng）顯的局限性，同焊接等領域全麵推廣應（yīng）用開關式電源的景況具有較大差距。

真空鍍膜是指在高真空的（de）條件（jiàn）下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形（xíng）成薄膜的一種方法。

真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵，在真空中以真空技術為（wéi）基礎（chǔ），把物理（lǐ）方法和化學方法利用起來，通過吸收分（fèn）子束（shù）、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁（cí）控等一係列高新技術，在科（kē）學研究和實際生產中，為薄膜製備提供一種新工（gōng）藝，簡單的一點來說，要在真空中（zhōng）利用（yòng）合金、金屬或化合物進行（háng）蒸（zhēng）發和濺射（shè），並讓（ràng）被塗覆的物體（有基片、稱基板、基體等等）進行（háng）凝固並沉積，這種方法稱為真空鍍膜，那真空鍍膜電源就可想而（ér）知，眾（zhòng）所周知，在一些材料的表（biǎo）麵上鍍上一（yī）層薄（báo）膜，就可以（yǐ）使這種材料具有多種性能，例如良好的物理和（hé）化學性能並且是嶄新（xīn）的；