了解真空鍍膜和（hé）光學鍍膜的區別

1、概念差異

1. 真空鍍膜是指在高真空條件（jiàn）下加熱金屬或（huò）非金屬材料，使其在被鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵蒸發凝結形成薄（báo）膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍（dù）鉻等。

2. 光學鍍膜是指在光學元件表麵塗（tú）覆一層(或多層)金屬(或介（jiè）電)薄膜的工藝。在（zài）光學元件表麵塗膜的目（mù）的是為了減（jiǎn）少或增（zēng）加光的反（fǎn）射、分束、分色、過濾（lǜ）、偏振等要求。常用的（de）包（bāo）覆方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學包覆。

2、原（yuán）則（zé）差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個重要方麵，它以真（zhēn）空技術為基礎，利用物理或（huò）化學方法（fǎ），吸收了電（diàn）子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控（kòng）管等一（yī）係列新技術，為（wéi）科學研究和實際生產提供了薄（báo）膜製（zhì）備的新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以使其凝固並沉積在塗層物體(稱為基材、襯底（dǐ）或襯底)上的（de）方法。

2. 光的幹涉在薄膜光學（xué）中有著廣泛的應用。光學薄膜技術常（cháng）用的方法是通過真空濺射在玻璃基板上塗覆薄膜（mó），一般用來控製基板對入射光束的反（fǎn）射率和透（tòu）射率，以滿（mǎn）足不同的需要。為了消除光學元件表麵的反射損失，提高（gāo）成像質量，在表麵塗上一（yī）層或多層透明的介電膜，稱為抗反（fǎn）射膜或抗反射（shè）膜。

隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透射率有了不（bú）同的要求，促（cù）進了多層高反射膜和寬帶增透膜（mó）的發展。為滿足各種應用的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光片等。光學元件表麵（miàn）塗覆後，光在膜層上多次反射透射，形成多束幹涉。通過控製膜層的折射率和厚度，可以（yǐ）得到不同的光強分布，這（zhè）是幹（gàn）涉鍍膜的基本原理（lǐ）。

3、方法和材（cái）料的差（chà）異

1. 真空（kōng）鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍（dù）基材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽真（zhēn）空後，將薄膜（mó）材料加熱到高（gāo）溫，使蒸氣達到約13.3Pa，使（shǐ）蒸氣分子飛（fēi）到基片表麵，凝結成薄膜。

(2)陰 極濺射鍍:將待鍍基材置於陰 極的對麵，在真空室中引入惰性（xìng）氣（qì）體(如氬氣)，保（bǎo）持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰（yīn） 極接在2000V直流電源上刺激輝光放電。正氬離子撞擊（jī）陰 極，使其釋放出原子。濺（jiàn）落的原子通（tōng）過惰性氣（qì）氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相沉積:通過（guò）對選定的金屬或有機化合物（wù）進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離（lí）子鍍:離子鍍本質上是真空蒸（zhēng）發鍍和陰 極濺射（shè）鍍的有機（jī）結合，具有兩者的工藝特點。各種塗覆方式（shì）的優缺點如表（biǎo）6-9所示。

2. 光學鍍膜（mó）方法用材料

(1)氟（fú）化鎂:純度高的無色四方（fāng）結晶粉末，用於光學鍍（dù）膜，提高透光率（lǜ），防止坍塌（tā）點。

(2)二氧（yǎng）化矽:無色透明晶體，熔點高，硬度（dù）高，化學穩定性好。純度高，用於製備高品質SiO2塗層，蒸（zhēng）發狀態好，無坍塌點。根據使用要求分（fèn）為紫（zǐ）外線、紅外線和可見光。

(3)氧化（huà）鋯:白（bái）色重晶態，具有高折射率和耐高溫（wēn）性能，化學性質穩定，純度高。用於（yú）製備無坍塌點的高質量氧化鋯塗（tú）層。