真空鍍膜技（jì）術的專業術語和工藝

1.1真空鍍膜:在真空條件（jiàn）下在基材上（shàng）製備薄膜層（céng）的方法。

1.2底物:膜層受體。

1.3測試基材:在塗層過程開始、過（guò）程中或之（zhī）後用於（yú）測量和/或測試的（de）基材（cái）。

1.4塗層材料:用於製作塗層的原材料。

1.5蒸發材料:真空蒸（zhēng）發中用於蒸發的塗層材料。

1.6濺射材料:真空濺射中用於濺射的塗層（céng）材料。

1.7膜材:構（gòu）成膜（mó）層的材料。

1.8蒸發速率:在給定的（de）時間間隔內，物（wù）質（zhì）的蒸（zhēng）發量除以該時（shí）間（jiān）間隔

1.9濺射率:在給定時間間（jiān）隔內濺射出的材料量除以（yǐ）該時間（jiān）間隔。

1.10沉（chén）積速率:在給（gěi）定時間間隔內（nèi）沉積（jī）在襯底上的材（cái）料量（liàng），除以（yǐ）時間間隔和襯（chèn）底表麵積。

1.11塗層角:顆（kē）粒入射到基材上的方向與被塗層表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸（zhēng）發鍍膜:使（shǐ）塗層材（cái）料蒸發的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸（zhēng）發:利用多台蒸發器將各種蒸發物質同時（shí）蒸發到基（jī）材上的（de）真空蒸發。

2.1.2蒸發場蒸發（fā）:從蒸發場同時蒸發出來的材料沉積在基片上的真空蒸發過程(該過程應用於（yú）大規模蒸發（fā），以達到理想的膜厚（hòu）分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材（cái）料通過與氣體反應而達到理想化學（xué）成分的（de）真空蒸發。

2.1.4蒸發器反（fǎn）應真空蒸發蒸發器反應真空蒸發:與蒸發（fā）器內各種蒸發（fā）物質（zhì）發生反應，得到理（lǐ）想化學成分膜層（céng）材料的真空蒸發。

2.1.5直（zhí）接加熱蒸（zhēng）發:蒸發物料蒸發所需的熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應渦流加熱使物料蒸發。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟（hōng）擊加（jiā）熱材料的蒸發（fā）。