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鏡片在接受鍍膜（mó）前必須進行預清洗，這種清洗要求（qiú）很（hěn）高，達到分（fèn）子級。在清（qīng）洗槽中分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此（cǐ）過程中要特別注意避免空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏（nián）附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙（cāng）內，在此過程中要特別注意避免空氣中（zhōng）的灰塵（chén）和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙（cāng）內鍍（dù）前進行的，放置在真空艙內的離子（zǐ）槍（qiāng）將（jiāng）轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍膜（mó）。
真（zhēn）空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢（ne），有哪些明顯（xiǎn）的（de）效果？
概念的區別：
1、真空鍍膜（mó）是指在高（gāo）真空的條件下加熱金屬或非金屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣（yuán）體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如（rú），真空鍍（dù）鋁、真（zhēn）空（kōng）鍍鉻等。
2、光（guāng）學鍍膜是指在光學零件表（biǎo）麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質（zhì）)薄膜的工藝過程。在光學零件表（biǎo）麵鍍膜的（de）目的是為了（le）達到減（jiǎn）少（shǎo）或增加光的反射、分束、分（fèn）色、濾光、偏振等要（yào）求。常（cháng）用的鍍膜法有真空（kōng）鍍膜(物理鍍膜的一種（zhǒng）)和化學鍍膜。
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