上海MSD係列直流磁控濺射（shè）電源

主要型號：

主（zhǔ）要（yào）特點：
   A 采（cǎi）用先進的電流型開關電源技術，減小（xiǎo）輸（shū）出儲（chǔ）能元件，
同時（shí）提（tí）高了抑製打火及重啟速（sù）度（dù），應用在鋁靶（bǎ）鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對（duì）於傳統（tǒng）的恒流模式，
更能保證鍍（dù）膜工藝的重複性。
  C 具有理想（xiǎng）的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可（kě）選（xuǎn）擇手動控（kòng）製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或（huò）MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控（kòng）製係（xì）統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便維護，可（kě）靠性（xìng）高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能（néng），方便（biàn）實現自動化控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍（dù）製各種金屬

在電（diàn）子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是（shì）隨處可見的（de），或許正是因為電源的普遍應用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾（zhòng）多電源類型中的（de）一種，這種電源與普通的電源（yuán）有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍（dù）膜機光學鍍膜（mó）加工上有什麽要注意的（de）嗎？當（dāng）光線進入不同傳遞（dì）物質時（如由空氣（qì）進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射（shè）鏡，整個加起來可（kě）以讓入射光線損失達30%至40%。現代光（guāng）學透（tòu）鏡通常都鍍有單層或多層（céng）氟化鎂的增透膜，單層增透膜（mó）可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射（shè）降低（dī）至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜（mó），光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍（dù）多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真（zhēn）空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質的分界麵上，由於邊界（jiè）條件的不同，改變了其能量的（de）分布。對於單層薄（báo）膜來說，當增透膜兩邊介質不同時（shí），薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄（báo）膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（shí）（分別是介質1、2的折射率），才可（kě）以使入射光全部透（tòu）過（guò）介質。一（yī）般光學透（tòu）鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到（dào）100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近（jìn）1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍（bèi）四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁（cí）波增透，為使在（zài）更大範（fàn）圍內和更多波（bō）長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增（zēng）透膜的利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的（de）材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術（shù），因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各（gè）業，為人類科技進步作出了重大貢獻。