MSD係列（liè）直流磁控濺射電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減（jiǎn）小（xiǎo）輸出儲能元件，
同時提（tí）高了抑製（zhì）打火及重（chóng）啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率（lǜ）模式（shì）相對於傳統的恒（héng）流模式（shì），
更能保證鍍（dù）膜工藝（yì）的重複性。
  C 具（jù）有（yǒu）理想（xiǎng）的電壓陡降特（tè）性，自動（dòng）識別偽打（dǎ）火現象，
充分滿足磁控濺射工（gōng）藝過程（chéng）的連（lián）續性。
  D 主（zhǔ）要參數可大範（fàn）圍調節
  E 可（kě）選擇手動控製/模擬量接口（kǒu）控製，可選配RS485通訊（xùn）接口。
  F 采（cǎi）用進口大功率IGBT&MOS模（mó）塊（kuài）
采（cǎi）用先進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工（gōng）藝嚴格完善。
該係列產品采用先進（jìn）的DSP控製係（xì）統，充分保（bǎo）證鍍膜工藝的重（chóng）複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金（jīn）屬（shǔ）

在電子科技（jì）快（kuài）速發展的時代中，電源的應用可以（yǐ）說是隨處可見（jiàn）的，或許正是因為電源的普（pǔ）遍應用，所以（yǐ）電源的類（lèi）型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是（shì）眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍（dù）膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線（xiàn）進入不同傳（chuán）遞物質時（如由（yóu）空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損（sǔn）失達30%至（zhì）40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層（céng）或多層氟化鎂的增透膜（mó），單層（céng）增透膜可使反射減少至1.5%，多（duō）層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當（dāng）鍍膜，光線透穿率可達（dá）95%。鍍了單層增透膜的鏡（jìng）片通（tōng）常是藍紫（zǐ）色（sè）或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠（lǜ）色或暗紫色。

真空鍍（dù）膜機增透膜（mó）增加透射光強度的實（shí）質是作為電磁波的光波在傳播的過程中（zhōng），在不同介質的分界麵上，由於邊界條件（jiàn）的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不（bú）同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別（bié）是（shì）介質1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右（yòu）的光學玻璃，為使單（dān）層膜達到100%的（de）增（zēng）透效果，可使（shǐ）n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波（bō）長。單（dān）層膜隻（zhī）對某一特定波（bō）長的電磁波增透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透（tòu），人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透（tòu）膜的利用有了很多的經驗，發現了（le）不少可以（yǐ）作（zuò）為增透膜的材料；同時也掌握了不（bú）少（shǎo）先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索（suǒ）等各行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。