江蘇MSD係列直流磁控（kòng）濺射（shè）電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電（diàn）源技術，減小輸出儲能元（yuán）件，
同時提高了抑製打火及重啟速度，應用（yòng）在（zài）鋁靶鍍膜優勢更（gèng）為明顯。
   B 具備恒流/恒功率（lǜ）模式可選。恒功率模式相對於傳（chuán）統的恒（héng）流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理（lǐ）想的（de）電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的（de）連續（xù）性。
  D 主要參數可（kě）大範圍調節
  E 可選擇手（shǒu）動控（kòng）製/模擬（nǐ）量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊（kuài）
采用先進的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小、重量輕（qīng）、功（gōng）能全、性（xìng）能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列（liè）產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充分（fèn）保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光放電（diàn）及抗短（duǎn）路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了（le）靶（bǎ）麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

直（zhí）流磁控濺射用於鍍製各種金（jīn）屬

在電子科技（jì）快速發展的時代中，電源的應用可以說是隨（suí）處（chù）可見的，或許正是因為電源的普（pǔ）遍應用，所（suǒ）以（yǐ）電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類（lèi）型中的一種，這種（zhǒng）電源與（yǔ）普通的電（diàn）源有一定的（de）區別，單是（shì）電源的（de）外（wài）觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加（jiā）工上（shàng）有什麽要注意的（de）嗎？當光線進入不同傳遞物（wù）質時（如由空氣進入玻璃），大約有（yǒu）5%會被（bèi）反射掉，在（zài）光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線（xiàn）損失（shī）達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜（mó），單層（céng）增（zēng）透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低（dī）至（zhì）0.25%，所以整（zhěng）個瞄準鏡（jìng）如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍（dù）多層增透（tòu）膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫（zǐ）色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作（zuò）為電磁波的（de）光波在（zài）傳播的過程中，在不同（tóng）介質的分界麵上（shàng），由於邊界條（tiáo）件（jiàn）的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當（dāng）增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且（qiě）薄膜的折（shé）射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質1、2的折（shé）射率（lǜ）），才可以使入射光（guāng）全部（bù）透過介質。一般光學透（tòu）鏡（jìng）都是在空（kōng）氣中使用（yòng），對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜（mó）達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的（de）厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一（yī）特定波長的電磁波增透，為使在更（gèng）大範圍（wéi）內（nèi）和更多波長實（shí）現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的（de）利用有了很多的經驗，發現了不少可以作為增透膜的材料；同（tóng）時也掌握了不（bú）少先進的鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探（tàn）索（suǒ）等各行各業，為人類（lèi）科技進步（bù）作出了重大（dà）貢獻。