北京MSDP單極脈（mò）衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶麵電（diàn）荷積累現象，減小濺射表麵的打（dǎ）火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電（diàn）壓≥1000V，工作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的（de）PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體（tǐ）積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝（yì）嚴格完善。
該係列產品采（cǎi）用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定（dìng）性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

單極脈衝磁控濺射（shè）適用於金屬（shǔ）、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和（hé）部分氧化物、氮（dàn）化物及碳化（huà）物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗（xǐ），這種清洗要求（qiú）很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置（zhì）各種清洗液，並采用（yòng）超聲波（bō）加強清洗效果，當鏡片（piàn）清洗完後，放進真空（kōng）艙內，在（zài）此過程中要特別注意（yì）避（bì）免空（kōng）氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的（de）清洗是在真空艙內，在此過程中（zhōng）要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片（piàn）表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進（jìn）行（háng）的，放置（zhì）在真空艙內的離子（zǐ）槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子），完（wán）成此道（dào）清洗工序後即（jí）進（jìn）行減（jiǎn）反射膜的鍍膜（mó）。

真（zhēn）空鍍膜電源為（wéi）什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的效（xiào）果（guǒ）？

概念的區別：

1、真（zhēn）空鍍膜是（shì）指在高真空的條件下加（jiā）熱金屬或非金屬材料，使其（qí）蒸發並凝結於鍍件（金（jīn）屬、半導體或絕緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真（zhēn）空鍍鉻（gè）等。

2、光學鍍膜是指在光學零（líng）件表麵（miàn）上鍍（dù）上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的（de）是為了（le）達（dá）到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等（děng）要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。