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真空鍍膜是一種通過物理方法生產薄膜材料的（de）技（jì）術。在真空室中，材料的原（yuán）子從加熱源中分離出來，撞擊在被（bèi）鍍物體的表麵上。真空鍍膜機在（zài）正常工作情況下，通電時（shí）必須先打開（kāi）水管，工作中要隨時注（zhù）意水壓。
真空鍍膜電源在離（lí）子轟擊蒸發過（guò）程中，要（yào）特（tè）別注意高壓線接頭，不要觸碰，以防觸電。用電子槍鍍膜時，應（yīng）在鍾罩外圍放一塊（kuài）鋁板。觀察（chá）窗（chuāng）的玻璃（lí）好是鉛玻璃，觀察時應佩（pèi）戴（dài）鉛玻璃（lí）眼鏡，防止X射線對人體造成傷害。
在鍍多層介質膜的鍍層室內，應安裝通風除塵裝置，及時清（qīng）除（chú）有害粉塵。易燃、有毒物品應妥善保管（guǎn），防止火（huǒ）災中毒。酸洗夾具（jù）應在通風設（shè）備中進行，並應戴上橡膠手套。將零件放入（rù）酸洗或（huò）堿洗槽時（shí），應輕拿輕放，不得碰撞、濺水。通常酸洗槽應加蓋。
真空（kōng）鍍膜有蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍三種形式：當濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表麵時，可以獲得固體表（biǎo）麵的粒子。能量從表麵逸出並沉積在基（jī）板上（shàng）；離子鍍蒸發物質的分子通過電子撞擊被電離，並以離子的形式沉積在固體表麵。所有三種形式的真空鍍膜技術都需要快速冷卻裝置來輔助真（zhēn）空鍍膜過程。
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