浙江HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑製工（gōng）件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率（lǜ）1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短（duǎn）路功能，
具有（yǒu）極佳的（de）負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可靠性（xìng）高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特（tè）殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝（huī）光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等（děng）。

社會不（bú）斷發展，技術（shù）也是不斷得（dé）在創（chuàng）新。真空鍍（dù）膜電源的運用範（fàn）圍是越（yuè）來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技（jì）術，是表麵工程技術領域的重要（yào）組成部（bù）分。隨著全（quán）球製（zhì）造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集（jí）成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設（shè）備、技術材料需求都在不斷增（zēng）加，包括製造（zào）大（dà）規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應用各種光學特性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜（mó）和增透膜（mó）；建築、汽（qì）車（chē）行業上應用的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜；包裝領域用（yòng）防護膜、阻隔膜；裝飾（shì）材料上具體各（gè）種功能裝飾效果（guǒ）的功能膜；工、模具表麵上應用的（de）耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各（gè）種功能（néng）性（xìng）薄膜等。對於國內真空鍍膜（mó）設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢（shì）整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍（dù）膜設備製造企業應（yīng）著力進行（háng）產業結構優化升級，重質量（liàng）、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以（yǐ）信息（xī）化帶動工（gōng）業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資（zī）源消耗低、環（huán）境汙染少、人力資（zī）源優勢得到充分發揮的新型工業化路子（zǐ）。

3、依托政府支持，大力（lì）加強與擁有行業先進技術和（hé）工藝水平的科研院所（suǒ）、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向（xiàng）市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未（wèi）來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技（jì）術（shù）進步，更加注重技術（shù）能力積累，製造偏向服務型（xíng），向世界（jiè）真空鍍膜（mó）設備行業等製造業價值鏈高端挺進。