HVP高壓窄脈衝電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特（tè）性，
有效抑製工件表麵打火（huǒ），明（míng）顯提高鍍件的成品（pǐn）率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰（fēng）值可達（dá）3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大（dà）脈衝寬度25uS)。
   D 可（kě）選擇手動控製/模擬量接（jiē）口控製，可選配RS485通訊接口。
采用（yòng）先進的PWM脈（mò）寬調製（zhì）技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能全、性（xìng）能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶（bǎ）麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調節；
方便維護（hù），可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主（zhǔ）要用途：

高（gāo）壓窄脈衝電源適用於特殊鍍（dù）膜工藝（yì）時被鍍工件表麵的輝光（guāng）清洗、鍍膜前的（de）離子轟擊和鍍膜時（shí）的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源（yuán）的運用範圍是越來越廣泛了，真（zhēn）空鍍膜技術是一種新穎的材料合（hé）成與加工（gōng）的新技術，是表麵工程技（jì）術領域（yù）的重要組成（chéng）部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍（dù）膜技術應用越來越廣泛。從半導體集（jí）成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏（fú）、化工、製藥等行（háng）業的發展來看，對真空鍍膜（mó）設備、技（jì）術材料需求都在不斷（duàn）增加，包括（kuò）製造大規模集（jí）成電路的電學膜（mó）；數字式縱向與橫向（xiàng）均可磁（cí）化的數（shù）據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器（qì）上的導電膜和增透膜；建築、汽車行（háng）業上（shàng）應用的玻（bō）璃鍍膜和裝飾膜（mó）；包裝領域（yù）用防護膜（mó）、阻隔膜；裝飾材料上具體（tǐ）各種功能裝飾（shì）效果的功能膜；工、模具表麵上應用（yòng）的耐磨（mó）超（chāo）硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國（guó）內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲（pí）弱，複（fù）蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底（dǐ）過（guò）程，真空（kōng）鍍膜設備（bèi）製造企業應著力（lì）進行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市（shì）場定位，大力研發擁有自主（zhǔ）知識產權的（de）新（xīn）產品新（xīn）工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托（tuō）信息化發展趨勢，堅持“以（yǐ）信息化帶動工業化，以工（gōng）業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資（zī）源優勢（shì）得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政（zhèng）府支持，大力加強與擁有行業先進（jìn）技術和工藝水（shuǐ）平的（de）科研院所、大型企業、高校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣（guǎng）闊的應用領域和發展（zhǎn）前景。未來真空鍍膜設備行業等製造（zào）業將以信息化融合為重心，依靠技（jì）術進步，更（gèng）加注重技（jì）術能力積累，製造偏向服務型，向世（shì）界真（zhēn）空鍍膜設（shè）備行業等製造業價值鏈高端挺進。