武漢HVP高壓（yā）窄脈衝電（diàn）源

主要型號：

主要特點：
   A具（jù）有行動穩定電壓功能，具有理想的電壓（yā）陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層（céng）結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝（chōng）寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈（mò）寬調製技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全（quán）、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保（bǎo）證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及（jí）抗短路功能，
具有極（jí）佳的（de）負（fù）載（zǎi）匹（pǐ）配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定（dìng）性，又提高了（le）靶麵清（qīng）洗速度（dù）；
主要參數均可（kě）大（dà）範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接（jiē）口擴展功能，方便實現自（zì）動化（huà）控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電（diàn）源適用於（yú）特殊鍍膜工藝時被鍍工件（jiàn）表麵的輝光清（qīng）洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在創新。真（zhēn）空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域（yù）的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜（mó）技術（shù）應用越來越廣泛。從半導體（tǐ）集（jí）成（chéng）電（diàn）路（lù）、LED、顯示器、觸摸屏、太陽（yáng）能光伏、化工、製藥等行業（yè）的發展來看，對真空鍍膜設備、技（jì）術材料需求都在不斷（duàn）增加，包括（kuò）製造大規模集（jí）成電路的電學（xué）膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應（yīng）用各種光學特性的光學膜；計（jì）算機顯（xiǎn）示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導（dǎo）電膜和（hé）增透膜；建築、汽車行業上（shàng）應用的玻璃鍍（dù）膜和裝飾膜；包裝（zhuāng）領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具（jù）體（tǐ）各種功能裝飾效果的功（gōng）能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方（fāng）麵的各種（zhǒng）功能性薄膜等。對於（yú）國內真空鍍膜設備（bèi）製造企業發展建議（yì）如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜（mó）設備製（zhì）造企（qǐ）業（yè）應（yīng）著（zhe）力進行產（chǎn）業結構優化升級（jí），重（chóng）質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識（shí）產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化（huà）發展趨（qū）勢，堅持“以信息化帶動（dòng）工業化，以工業化促進信息化（huà）”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源（yuán）消耗低、環境汙染少、人（rén）力（lì）資源（yuán）優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持（chí），大力加強與擁有行業先進技術（shù）和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使得（dé）新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技（jì）術及設備擁（yōng）有十（shí）分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行（háng）業等製造業將以信（xìn）息化（huà）融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服（fú）務型，向世界真空鍍膜設備行業（yè）等製（zhì）造業價值鏈高端（duān）挺（tǐng）進。