江（jiāng）蘇HVP高壓窄脈衝電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效（xiào）抑製工件表麵打火，明顯提（tí）高鍍件的成（chéng）品率、表麵光潔度（dù）和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬（kuān）度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能（néng）穩定可靠，生產工藝嚴（yán）格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統（tǒng），充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶（bǎ）材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳（jiā）的（de）負載（zǎi）匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參數均可大範圍連續調（diào）節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光（guāng）清（qīng）洗、鍍膜前的離子（zǐ）轟擊和鍍膜時的離（lí）子加速（sù）等。

社會（huì）不斷發展，技術也是不斷得在創新。真空（kōng）鍍膜電源的運用範圍是（shì）越來越廣泛了，真空鍍（dù）膜技術是（shì）一種新穎的材料（liào）合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製（zhì）造業高速（sù）發（fā）展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體（tǐ）集成電路、LED、顯示（shì）器（qì）、觸摸屏、太（tài）陽（yáng）能光伏、化工、製藥（yào）等行業的發（fā）展來看，對真空鍍（dù）膜設備、技術材料（liào）需求都在不斷增加，包括（kuò）製（zhì）造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄（lù）儲存膜；充分展示和（hé）應用各種光（guāng）學特（tè）性的光學膜（mó）；計算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導（dǎo）電膜和（hé）增透膜；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜（mó）和裝（zhuāng）飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的（de）功（gōng）能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬（yìng）膜；納米材料研究（jiū）方麵的各種功能性（xìng）薄膜等。對於國（guó）內（nèi）真空鍍膜設備製造企業發（fā）展（zhǎn）建（jiàn）議如下：

1、目前實體經濟走勢（shì）整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進（jìn）行產業結構優化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發擁有自主知識產權的新產品（pǐn）新工藝，提高產品質量和服務（wù）水平。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅（jiān）持“以信（xìn）息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高（gāo）、經濟（jì）效益好、資源消耗低（dī）、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加（jiā）強與擁有行業先進技術和工藝水（shuǐ）平的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域（yù）和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製（zhì）造業將以信息化融（róng）合為重心，依靠技術（shù）進步，更加注（zhù）重技術能力積累，製造（zào）偏（piān）向服務型，向（xiàng）世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進（jìn）。