江蘇HVP高壓窄脈（mò）衝電源

主要型（xíng）號：

主要特點：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具有理想（xiǎng）的電壓（yā）陡降（jiàng）特性，
有效抑製工件表麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表（biǎo）麵光潔度和膜層結合力（lì）。
   B 電壓脈衝輸出（chū）峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈（mò）衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作（zuò）為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功（gōng）能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品采用（yòng）先（xiān）進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝的（de）重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的（de）穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能（néng），方便實現自（zì）動化（huà）控製。

主（zhǔ）要用途：

高壓（yā）窄脈衝電（diàn）源適用於特（tè）殊鍍膜（mó）工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的離（lí）子轟擊和鍍膜時的離（lí）子加速等（děng）。

社會不斷發（fā）展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛（fàn）了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料（liào）合成與加工的新（xīn）技（jì）術，是表麵工程技術領域的重要組成部（bù）分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導（dǎo）體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏（píng）、太陽能（néng）光伏、化工、製（zhì）藥（yào）等行業的發展來看，對真（zhēn）空鍍膜設（shè）備、技術（shù）材料需求（qiú）都在不斷增加，包括製造大（dà）規模集（jí）成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁（cí）化的數據記錄儲存膜（mó）；充（chōng）分展（zhǎn）示和應用各種光學特性的光學膜；計（jì）算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行（háng）業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜（mó）；包（bāo）裝領域用防護膜、阻隔膜；裝（zhuāng）飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工（gōng）、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等（děng）。對於國內真空鍍膜設備製（zhì）造企（qǐ）業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整（zhěng）體疲弱（ruò），複蘇充滿不確定性，經濟（jì）處於（yú）繼續探底過程（chéng），真空鍍（dù）膜設備製造企業應著力（lì）進行產業結構優化升級，重質量、重（chóng）服務明確市場定位，大力（lì）研發擁有自主知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平（píng）。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅持（chí）“以（yǐ）信息化帶動工業化，以工業化促（cù）進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力（lì）資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政（zhèng）府支持，大力加強（qiáng）與擁有行（háng）業先進技術和工藝水平的科研院（yuàn）所、大（dà）型企業（yè）、高校（xiào）合作，使（shǐ）得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有（yǒu）十分廣闊的應用領域（yù）和發展前景。未來真空鍍膜設備（bèi）行（háng）業等製造業將以信息化融合（hé）為重心，依靠技術進步，更加（jiā）注（zhù）重技術能力積累，製（zhì）造（zào）偏向服務型，向世界真空（kōng）鍍膜設備行業等製造（zào）業價值鏈高端（duān）挺進。