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真（zhēn）空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法並吸（xī）收一係列新技術（shù）而成的工藝，目的就是（shì）為了在實際生產中（zhōng）為產（chǎn）品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控（kòng）濺射鍍膜、離（lí）子鍍三種。真空鍍膜電源廠家介紹真空鍍膜有什麽特點：
（1）成膜（mó）溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學鍍（dù）膜溫度更高達1000℃以上。這（zhè）樣高的溫度很容易引起被鍍件的變（biàn）形、變質，而真空鍍膜的溫度（dù）低，可以降到常（cháng）溫，避免了常規鍍膜工藝的弊端。
（2）蒸發（fā）源選擇自（zì）由度（dù）大。可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限製，可鍍種類眾（zhòng）多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及（jí）各種複合膜。
（3）不使用有（yǒu）害氣體（tǐ）、液體，對環境無不利影響。在當前越來越重視環保的大趨勢下，這點極其可貴。
（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平（píng）滑且極薄的鍍膜，鍍膜（mó）純度高，耐蝕性和附著（zhe）力好。不存在熱鍍鋅中（zhōng）的漏鍍點、鋅浪、鋅花（huā）等（děng）問題。
（5）工（gōng）藝靈活，改變品種方便。可鍍單麵、雙麵和（hé）單層、多層（céng）及混合層。鍍膜（mó）厚度易於（yú）控製。
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