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真空鍍膜電源

關於真空離子鍍膜的(de)作用(yòng)

2020-07-25 00:00:00

真空鍍膜電源廠家的(de)在(zài)真空離子鍍膜中,尤其對(duì)於多弧離子鍍膜,無論是裝(zhuāng)飾鍍還是工具鍍(dù),轟偏電源的好壞對於成膜質量都(dōu)起著非常關(guān)鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍對膜層質量的(de)要求有相同之處又各有側(cè)重。

離子源電源

離子鍍是真空室中,利用氣體(tǐ)放電或被蒸發物質部分離(lí)化,在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的(de)同時,將蒸發物(wù)或反應物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象(xiàng)、 等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來,不僅能明顯地改進了膜質量,而且(qiě)還擴大了薄(báo)膜(mó)的應用範圍。多弧電源其優點是薄膜 附著力強(qiáng),繞射性(xìng)好,膜材廣泛等。D.M.首次提出(chū)離子鍍原理,起工(gōng)作過程是:


先將真空(kōng)室抽至4×10(-3)帕以上的真空度,再接(jiē)通高壓電源,在蒸發源(yuán)與基片之間建立一個低壓氣(qì)體放電的 低溫等離子區。基(jī)片電極接上5KV直流負高壓,從而形成光放電陰極。輝光放電(diàn)去產生的(de)惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表麵,對其進行清洗。然後計入鍍膜過程,加熱使鍍料(liào)氣化,起原子進入等離子區,與惰性氣體離子及電子(zǐ)發生碰(pèng)撞,少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子(zǐ)以較高(gāo)能量(liàng)轟擊鍍層(céng)表麵,致使膜層質量得到改善。


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