浙江HVP高壓窄脈衝電（diàn）源

主要型號：

主要特點：
   A具有（yǒu）行動穩定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性（xìng），
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊（xùn）接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器（qì）件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜（mó）工藝（yì）的重複（fù）性，
並且具有抑（yì）製靶材弧光放電（diàn）及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維（wéi）護，可靠性高（gāo）；
PLC接口和RS485接口擴展功（gōng）能，方便實現自（zì）動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝（chōng）電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光（guāng）清洗（xǐ）、鍍膜（mó）前（qián）的離子轟擊和鍍（dù）膜（mó）時的離子加速等。

社會不斷（duàn）發展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技（jì）術是一種新穎的材料（liào）合成與加工的新技術，是表麵工程技術（shù）領域的重要組成部分。隨（suí）著全球製造（zào）業高速發展（zhǎn），真空（kōng）鍍膜（mó）技術應用越來越廣泛。從半（bàn）導體集成電路、LED、顯示器、觸（chù）摸屏（píng）、太陽能光伏（fú）、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設（shè）備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大（dà）規（guī）模集成電路（lù）的電學膜；數字（zì）式縱向與橫向（xiàng）均可（kě）磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機（jī）顯示用（yòng）的感光膜；TFT、PDP平（píng）麵顯示（shì）器上的導電膜和增透膜（mó）；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材（cái）料上具（jù）體各種（zhǒng）功能裝飾（shì）效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種（zhǒng）功能性薄膜等。對於國內真空鍍（dù）膜設備製造（zào）企業發展建（jiàn）議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確（què）定性，經濟處於繼續探底（dǐ）過程，真空鍍膜設備製造（zào）企業應著力進行產業結構優化（huà）升級，重質量、重服務明確市場定位（wèi），大力研發擁有自主知識產權的新產品新工（gōng）藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發展趨勢，堅（jiān）持“以信息化帶動工業化，以工（gōng）業化促進信息（xī）化”，走（zǒu）出一條科技含量高、經濟效益好（hǎo）、資源消耗低、環境汙（wū）染（rǎn）少、人力資（zī）源優（yōu）勢得到充分發（fā）揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型（xíng）企（qǐ）業、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空（kōng）鍍膜技術及設備擁有十分廣闊（kuò）的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進（jìn）步，更加注重技術能力積累，製（zhì）造偏向服務型，向（xiàng）世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高（gāo）端挺進（jìn）。