HVP高壓（yā）窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想的電（diàn）壓陡降特性（xìng），
有效抑製工件表（biǎo）麵打火，明顯提高鍍件的成品率、表麵光潔度和膜層結合（hé）力。
   B 電壓脈衝輸出峰值（zhí）可（kě）達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動（dòng）控製/模擬量接口控製，可（kě）選配RS485通訊接口。
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技術，使（shǐ）用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能（néng）全、性（xìng）能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係統，充（chōng）分保證鍍膜工藝的重複性，
並（bìng）且具有抑製靶材弧（hú）光放電及抗短路功能，
具（jù）有極佳的負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝（yì）的穩定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍（dù）膜工（gōng）藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜（mó）前的離子轟擊和（hé）鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷發（fā）展，技術（shù）也是不斷得在創（chuàng）新。真（zhēn）空鍍膜電（diàn）源的運用範圍是越（yuè）來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工（gōng）的新技術，是表麵（miàn）工程技術領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真（zhēn）空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯（xiǎn）示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製（zhì）藥等行業的發（fā）展來看，對真空（kōng）鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據記錄儲存（cún）膜；充分展示和應用各（gè）種（zhǒng）光學特性的光學膜；計算機顯示（shì）用的（de）感光膜；TFT、PDP平麵顯（xiǎn）示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業（yè）上應用的玻璃鍍膜（mó）和裝飾膜；包裝領域用防護（hù）膜（mó）、阻隔膜；裝飾材料上具體各種（zhǒng）功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備（bèi）製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複蘇（sū）充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備（bèi）製造企業應著力進行產業結構優（yōu）化升級，重質（zhì）量、重（chóng）服務明確市場定位，大力研發擁有自主（zhǔ）知識產權的新產品新工藝，提高產品質量和服務水平。

2、依托信息（xī）化發展趨勢，堅持“以信息化帶動工業（yè）化，以工業化促進信息化”，走出一條科（kē）技含量高、經濟效益好（hǎo）、資（zī）源（yuán）消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強（qiáng）與（yǔ）擁有行業先進技術和工（gōng）藝（yì）水平的科（kē）研院所、大（dà）型企業、高校合作，使得新（xīn）品能迅速推向市（shì）場。

真空鍍膜技（jì）術及（jí）設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備（bèi）行（háng）業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向（xiàng）世界真空鍍（dù）膜（mó）設（shè）備行業等製造（zào）業價值鏈高端挺進。