主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電(diàn)壓(V) | 最大峰(fēng)值電流(A) | 外形尺寸 | 冷(lěng)卻方式(shì) |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的最高值(zhí)和最(zuì)低(dī)值可獨立設置。
B輸出電壓(yā)範圍:-40V~+40V。
C波形頻(pín)率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製(zhì)/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采(cǎi)用先進的PWM脈寬調製技術(shù),使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能(néng)全、性(xìng)能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用(yòng)先(xiān)進的DSP控製係(xì)統,充分保證鍍膜(mó)工藝的重複性,
並且具有抑製(zhì)靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的(de)負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝(yì)的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數(shù)均可大範圍連續調節;
方便維(wéi)護,可靠性高;
PLC接口(kǒu)和RS485接口擴展功能,方便(biàn)實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期(qī)性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為(wéi)均勻(yún)放電,提高(gāo)工件膜層質量
真(zhēn)空鍍(dù)膜電(diàn)源廠家告(gào)訴你高頻開關電鍍電源應用在金(jīn)屬(shǔ)表麵處理及小(xiǎo)功率範圍內的國內市場已經接(jiē)受,具(jù)有廣闊的(de)市場前(qián)景。但產品主要局限(xiàn)於1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有(yǒu)少量廠家生產,從技術角度看主要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限(xiàn)性,同(tóng)焊接等領域(yù)全麵推廣應用開(kāi)關式電源的景況(kuàng)具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其(qí)蒸發並凝結於鍍件(金(jīn)屬、半(bàn)導體或(huò)絕緣體)表麵(miàn)而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重(chóng)要方麵,在(zài)真(zhēn)空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用(yòng)起來,通過吸收分子束、離(lí)子束、電子束、等(děng)離子束、射頻和磁控等一係(xì)列高新技術,在科學(xué)研究和實際生產中,為(wéi)薄膜製備提供一種新工藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合(hé)金、金屬或化合物(wù)進行蒸發和濺射,並(bìng)讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所周(zhōu)知,在一些材(cái)料的表麵上鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能(néng),例如良(liáng)好的物理和化(huà)學性能並且是嶄新的;