武漢（hàn）HVP高壓（yā）窄脈衝電源

主要型號：

主（zhǔ）要特點：
   A具有行動穩定電壓功能，具有理想（xiǎng）的電壓陡降（jiàng）特（tè）性，
有效抑製（zhì）工件表麵（miàn）打（dǎ）火，明顯提高鍍件（jiàn）的成品率（lǜ）、表麵（miàn）光（guāng）潔（jié）度和膜層結（jié）合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可（kě）達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度（dù）25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采（cǎi）用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器（qì）件，
體積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列（liè）產品采用先（xiān）進的DSP控製係統，充分保證（zhèng）鍍（dù）膜工藝的重（chóng）複（fù）性，
並（bìng）且具（jù）有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有（yǒu）極佳的負（fù）載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方便維（wéi）護（hù），可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口（kǒu）擴展功（gōng）能（néng），方便實現自動化（huà）控製（zhì）。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表（biǎo）麵的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發展，技術也是不斷得在（zài）創新。真（zhēn）空鍍（dù）膜電源的運用範圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的（de）材料合成與加工的新技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨著全（quán）球製造業高速發展，真空鍍（dù）膜技術應用越來（lái）越（yuè）廣泛。從半導體集成電（diàn）路、LED、顯示器、觸摸（mō）屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製（zhì）造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與橫（héng）向均可磁化的數據記錄儲（chǔ）存膜；充分展示和應用各種光學特性的光學膜；計算機（jī）顯示（shì）用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜；建築（zhù）、汽（qì）車行（háng）業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜（mó）；包裝領域用防護膜、阻（zǔ）隔膜；裝飾材（cái）料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜（mó）；納米材料研究方麵的各種功能（néng）性薄膜等。對於國內真空鍍（dù）膜設備製造企業發展建議如下（xià）：

1、目前實（shí）體經濟走勢整體疲弱（ruò），複蘇充滿不確定性，經（jīng）濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進（jìn）行產業結構優（yōu）化升級，重質量、重服（fú）務明確市（shì）場定位，大力研（yán）發擁有自主知識產權的新（xīn）產品新工藝，提高（gāo）產品質量和服務水平（píng）。

2、依托信息化發展趨勢，堅持“以信息化帶動（dòng）工業化，以工業化促進信（xìn）息化”，走出一條科技含量高、經（jīng）濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新（xīn）型工業化路子。

3、依托（tuō）政府支持，大力加（jiā）強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作（zuò），使得（dé）新品能迅速推向市場（chǎng）。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領（lǐng）域和（hé）發展前景。未（wèi）來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息（xī）化（huà）融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能（néng）力積累，製造偏（piān）向服務型，向世界真空（kōng）鍍膜設備（bèi）行業等製造業價值鏈高端挺進。