主要型號(hào):
型號 | 功率(W) | 工作電(diàn)壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷(lěng)卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三(sān)角波、矩形波、正弦波三種波形,波(bō)形的最高(gāo)值和最低值可獨立(lì)設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍(wéi):0.1-50Hz
D三角波、矩形(xíng)波占空比(bǐ)10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口(kǒu)控製,可選配(pèi)RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬(kuān)調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作(zuò)為功率開關器(qì)件,
體積小(xiǎo)、重量輕(qīng)、功(gōng)能全、性能穩定(dìng)可靠,生產工藝嚴(yán)格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工(gōng)藝的重複性,
並且具有抑製(zhì)靶材弧光(guāng)放電(diàn)及抗短路(lù)功能,
具有極佳的負載匹配能(néng)力,既保證了(le)靶麵(miàn)清洗工藝的穩定性,又提高了(le)靶麵清洗速度(dù);
主要參數均可大範圍(wéi)連續調節;
方便維護,可靠性(xìng)高(gāo);
PLC接口(kǒu)和RS485接口擴展功能,方便(biàn)實現自動(dòng)化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓波(bō)形輸出。通過驅(qū)動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻(yún)放(fàng)電,提高工件膜層質量
真空鍍膜電源廠家告訴你高頻(pín)開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功(gōng)率範圍內的(de)國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域(yù),在國內也隻有少量廠家生產,從技(jì)術角度看主要限於(yú)硬(yìng)開關變換模式和(hé)模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等(děng)方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域(yù)全麵推廣應用開關式電(diàn)源(yuán)的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真(zhēn)空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其(qí)蒸發並凝結於鍍件(金屬(shǔ)、半導體或絕緣體)表(biǎo)麵而形成薄膜(mó)的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵(miàn),在真空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利(lì)用起來,通過吸收(shōu)分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術(shù),在(zài)科學研(yán)究和實(shí)際生產中,為薄膜製備提供一種新工藝(yì),簡單的一點來說,要在真空中利用(yòng)合金、金屬或化(huà)合物進行蒸發和濺射,並讓被塗(tú)覆的物體(tǐ)(有基片、稱基(jī)板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍(dù)膜電源就可想而知,眾所周知,在一些材料的表麵上鍍上一層薄膜,就可以(yǐ)使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性(xìng)能並且是嶄(zhǎn)新(xīn)的;