脈衝磁（cí）控濺射是一種用矩形波電壓（yā）脈（mò）衝電（diàn）源代替傳統直流電源（yuán）的方法。脈衝濺射可以有（yǒu）效抑（yì）製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提（tí）高濺射（shè）的（de）沉積（jī）速率，降低沉積（jī）溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料沉積的工藝。脈衝磁控濺射（shè）的工作原理（lǐ）一個周期有正電壓

說（shuō）起單極脈衝磁控濺射（shè）電源，可能有點困惑，但我想說的（de）是，它是對直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩（jǔ）形（xíng）波電（diàn）壓脈衝電源代替傳統直流電源的（de）一種方法。脈（mò）衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除（chú）由（yóu）此產生的薄膜缺（quē）陷，同時（shí）可以提高濺射的