脈衝磁控濺射（shè）電源的功（gōng）能和工作原理

脈衝（chōng）磁控濺射是一種用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可以有效抑製電弧（hú）的產生（shēng），消除由此產生的薄膜缺陷，同時可以提（tí）高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材（cái）料沉（chén）積的工藝。

脈衝（chōng）磁控濺射的（de）工作原理

一個周期有正（zhèng）電壓和負電壓兩個階段，在負電壓段，電源對靶材的濺射起作用，正電（diàn）壓段引入電（diàn）子和靶材表麵積累的正電荷（hé），使表麵清潔，露出金屬表麵。

施加在靶材上的脈衝電壓與普通磁控濺射相（xiàng）同！對於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證放電穩定的前提下，應盡可能（néng）取低的頻率#因為（wéi）等離子體中的電子相對於離（lí）子具有較高的遷移（yí）率，所以正電壓值隻需要負電壓的10%-20%，就可以有效地中和積累在靶表麵上（shàng）的正電荷。占空比的選（xuǎn）擇（zé）確保了濺射過程中靶表（biǎo）麵上的累積電荷可（kě）以（yǐ）在正電壓階段完全（quán）中和，從而盡可能提高占空比，實現電源的大效率。