1、概念差異1.真空鍍膜（mó）是（shì）指在高真空條件下加熱金（jīn）屬或非金屬材料，使其（qí）在被鍍件(金（jīn）屬、半導體或（huò）絕緣體)表麵蒸發凝（níng）結形成薄膜的一種方（fāng）法。如真空鍍鋁（lǚ）、真空（kōng）鍍（dù）鉻等。2.光學鍍膜是指在光（guāng）學元件（jiàn）表麵塗覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學