主要型號(hào):
型號 | 功率(kW) | 工作電壓(V) | 最 大(dà)工作電流(A) | 主機外形尺寸 | 升壓轉換器外形尺寸 | 冷卻 方式 |
HVB-5kV1A | 5 | 5kV | 1A | 480*243*565 (WHD) | 220*230*400 (WHD) | 風冷 |
HVB-5kV2A | 10 | 5kV | 2A | |||
HVB-5kV4A | 20 | 5kV | 4A |
主要特點:
A 采用(yòng)先進的電流(liú)型開關電源技術,減小輸出儲能元件(jiàn),
同時提高了抑製打火及重啟速度。
B 具備恒(héng)流/恒功率模式可(kě)選。
C 具有理想的電壓陡降特性,自動識別偽打火(huǒ)現象,
充分滿足轟擊清洗過程的連(lián)續性。
D 主要參數可大範圍調節。
E 可選擇手(shǒu)動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用(yòng)先(xiān)進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產(chǎn)工藝嚴(yán)格完善。
該係(xì)列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍(dù)膜工藝(yì)的重複性,
並且具有(yǒu)抑(yì)製靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝(yì)的(de)穩定性,又提高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可大範圍連續調節(jiē);
方便維護,可(kě)靠性(xìng)高;
PLC接口和RS485接(jiē)口擴展功能(néng),方便實現自動(dòng)化控製。
主要用途:
MSB高壓雙(shuāng)極清洗電源適用於工件鍍膜前的高壓(yā)轟(hōng)擊清洗和鍍矽油保護膜。
在高技術產(chǎn)業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種的真空鍍(dù)膜技術已在國民經濟各(gè)個領域得到應(yīng)用。真空鍍(dù)膜技(jì)術是真空應(yīng)用技術(shù)的一(yī)個重要分(fèn)支,它已廣泛地應 用(yòng)於光學、電(diàn)子學、能(néng)源開發、理化儀器、建築機械、包裝(zhuāng)、民用製品、表麵科學以(yǐ)及科學研究等領域中。真空鍍(dù)膜所(suǒ)采(cǎi)用的方法主要有蒸發鍍.濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。這種真空鍍膜電源優勢會體現的比較明顯。

選用了領先的PWM脈寬調製技術,具有傑出的動態特性和抗幹擾才能,動態呼應時刻小於10mS。規劃(huá)有電壓、電流雙閉環操控電路,可實時對輸出電(diàn)壓電流的操控,能有用處理濺射(shè)過程中陰極靶麵的不清潔導致弧(hú)光放電造成大電流衝擊導致(zhì)電源的損壞疑(yí)問。選用數字化DSP操控技術,主動操控(kòng)電源的恒壓恒流狀況。在起弧和維弧時能主動疾速操控(kòng)電壓電流使起弧(hú)和維弧作業更安穩。
真空室裏的堆積條件跟著時刻發作改動是常見的表象。在一輪運轉過中,蒸(zhēng)發源的特性會跟著膜材的耗費而改動,尤其是規劃中(zhōng)觸及多層鍍膜時,假如技術進程(chéng)需繼續(xù)數個小時(shí),真空室(shì)的熱梯度也會上升。一起,當真空室內壁發作堆積變髒時,不一樣次序的工效(xiào)逐步發(fā)生區別。這些要素雖然是漸進(jìn)的並可以進行抵償,但仍然大(dà)概將其視為體係公役的一部分。