真空（kōng）鍍（dù）膜機幾種鍍膜方法介紹

真空（kōng）鍍膜設備的鍍膜工藝有（yǒu）很多。簡單來說，就是利（lì）用蒸發、濺射等方法（fǎ），在真（zhēn）空（kōng）環境下發射薄膜（mó）顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料件等（děng）物體上，形成客戶需要的各種塗層。在（zài）日常生活中較為常見的技術有真空蒸發（fā）、濺射鍍膜、離子鍍膜等

真空蒸發鍍（dù）膜:原理是用蒸發器（qì）在真空條件下加熱薄膜材料，使其汽化或升華。蒸發的粒子流直接指向基材，在基材上（shàng）沉積固體薄膜。蒸（zhēng）發又可分為（wéi）電子束蒸發、電阻（zǔ）蒸發、感應蒸發等

濺（jiàn）射鍍膜（mó）:在真空條件（jiàn）下，對陰極（jí）施加高壓電激發輝光放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞，使其射（shè）出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。

離（lí）子塗層:離子（zǐ）塗層通常是（shì）指在塗層過程（chéng）中產生大量離子的塗層方法。在膜的形成過程（chéng）中，基底不斷（duàn）受到高能粒子的轟擊，膜層的強（qiáng）度和附著力非常強。當離子（zǐ）鍍（dù）用於生產（chǎn）高（gāo）精度膜層時，可以過濾掉大顆（kē）粒離子，從而獲得高結構、高密度（dù）的膜層。

日常生（shēng）活中（zhōng）較常用的鍍膜技術就是這三（sān）種（zhǒng）真空鍍膜設（shè）備。具體選擇取決於要塗覆的膜層類型、要塗覆的工（gōng）件類型等。