真空鍍膜應用的主要方法

真空（kōng）鍍膜應用，簡單來說就是指在真空環境下，利用蒸發、濺射以及（jí）後續的冷凝等方法，在金屬、玻璃、陶（táo）瓷、半導體、塑料件（jiàn）等物體上沉積金屬薄膜（mó）或塗層。真空鍍膜應用與傳統鍍膜方法相比，屬於幹式鍍膜方法，其主要方法有以下幾種:

真空蒸發鍍膜

原理（lǐ）是用蒸（zhēng）發器在真空（kōng）條件下加熱蒸發的物質，使其蒸發或升華。蒸（zhēng）發的離子流直接指向襯底，在襯底上沉積固體（tǐ）薄膜。

濺射沉積

濺（jiàn）射鍍（dù）膜是在（zài）真空條件下，對陰極施加2000V的高壓激發輝光（guāng）放電（diàn）的過（guò）程。帶正電的（de）氬離子與（yǔ）陰極碰撞，使其釋放出原子，這些原（yuán）子隨後（hòu）在惰性氣氛中沉積在襯底上，形成（chéng）一層薄膜（mó）。

離（lí）子塗層

幹式螺杆泵生產廠家已經推出了真（zhēn）空離子鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技術的基礎上，結合了兩者的工藝（yì）特點而發展起來（lái）的。在真空條件下，用氣體（tǐ）放電使工作氣（qì）體或蒸發物質(膜材料)部分電（diàn）離，在離子轟（hōng）擊下，蒸發物質或其反應物沉積在襯底表麵。在（zài）膜的形成過程中，基底總是受到高能粒子的轟擊，使（shǐ）其非常幹淨。

真空（kōng）繞組鍍膜

真空纏繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積對柔性基材進行連續鍍膜的技術，以達到柔性基材的某些功能和裝（zhuāng）飾（shì）性能。