真空鍍膜電源（yuán）廠家（jiā）簡述離子鍍的（de）原理

2020-08-25 00:00:00

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離子鍍種類很多，蒸發（fā）遠加熱方（fāng）式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感（gǎn）應加熱等。

真空鍍膜電源廠家（jiā）

離子鍍是真空室中，利用氣（qì）體放電或被蒸（zhēng）發物質部分（fèn）離化，在氣體離子或（huò）被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發（fā）物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有（yǒu）機結合起來，不僅能明顯地（dì）改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧（hú）電源其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。真空鍍膜電源廠家首次提出離子鍍原理，起工作過程是：

先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通（tōng） 高壓電源，在蒸發源與基片之間（jiān）建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基（jī）片電極接上5KV直流負高壓，從（cóng）而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的（de）惰性（xìng）氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊（jī）基片表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化（huà），起原子進入等離子區，與惰性氣（qì）體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化（huà）。離（lí）化後（hòu）的例子及（jí）氣體離（lí）子以較高能量轟擊鍍層表麵（miàn），致使膜層質量得到改善。

然而多弧離子（zǐ）鍍與一般的離子鍍有著（zhe）很大的區（qū）別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍（dù）的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶（bǎ）作（zuò）為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在（zài）空（kōng）間中形成等離子體，對基體進行沉積。