離子源電源理想的（de）磁場設計

2020-07-15 00:00:00

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離子源電（diàn）源理想的磁場設計體現為：一方麵盡可能擴大磁場橫向（xiàng）分量的麵積與強度，另一（yī）方麵樶大程度的（de）控製和限製弧斑的運（yùn）動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性（xìng）能要求較高，工業應用（yòng）的離（lí）子鍍（dù）弧源應具備以（yǐ）下幾點特性：(1)放電穩定，不經（jīng）常滅弧；(2)弧（hú）斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩（nì），放電（diàn）功率密度小，大顆粒少；(5)等（děng）離子體密度以及（jí）離化率高，向工件輸運的等離子（zǐ）體通量足夠。

離子源電源

真空鍍膜電（diàn）源技術的離（lí）子源電源：提（tí）高工具、模具的加工質量和使用壽命一直是人（rén）們不斷探索的課題。電弧離（lí）子鍍技術是一種（zhǒng）工模具材料表麵改性技術，具有離化率高、可低（dī）溫沉（chén）積、膜層質量好以及（jí）沉積速率快等其（qí）他鍍膜方式所不具（jù）備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得了理想的應用效果。但（dàn）是（shì），電弧放電導致的大顆粒存在限（xiàn）製了工模具塗層技（jì）術的進一步應用，也成為後期電弧離子鍍技術發展的主要論題。

離子鍍弧源是電弧等（děng）離子體放電的源頭，是離子（zǐ）鍍（dù）技術的關鍵部件（jiàn）。電弧離（lí）子鍍采用（yòng）的弧源是冷陰極弧（hú）源，這種弧源中電（diàn）弧的行為（wéi）被陰極表（biǎo）麵許多（duō）快速遊動、高度明亮的（de）陰極斑點所控製。在發展和完善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點運動的有效控製至關重要，因（yīn）為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材（cái）的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質量的改善等諸多關鍵問題的解（jiě）決。國內外一直致力於這方麵（miàn）的工作，研究熱點主要集（jí）中在磁場（chǎng）控（kòng）製的弧源設計上。由於真空鍍膜電源電弧（hú）的物理特性，外加電磁場是控製弧斑運動的有（yǒu）效方法，目前所有的（de）磁場設（shè）計都是考慮在靶麵形成一定的磁場位形，利用銳角法則限製弧斑的運動軌跡，利用橫向分量提高弧斑的運動速度。