真空鍍膜技術的專業（yè）術語和工藝

1.1真空鍍膜:在真空條件下在基材上製（zhì）備（bèi）薄膜層的方法。

1.2底（dǐ）物（wù）:膜層受體（tǐ）。

1.3測試（shì）基材:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或（huò）測試的基材。

1.4塗層材料:用於製作塗層的原材（cái）料。

1.5蒸發材料:真空（kōng）蒸發中用於蒸發的塗層材（cái）料。

1.6濺射材料:真空（kōng）濺射中用於濺（jiàn）射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發速（sù）率:在（zài）給定的時間間隔內，物質的蒸發量除以該時間（jiān）間隔

1.9濺射率:在給定時間（jiān）間隔內濺射出的材料量除以該（gāi）時間間隔。

1.10沉積速率:在給定時間間隔內沉積（jī）在襯底上的材料量，除以時間間隔和襯底表麵積。

1.11塗層角:顆（kē）粒入射到基（jī）材上的方（fāng）向與被（bèi）塗層（céng）表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層（céng）材料蒸發的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸發:利用多台蒸發器將各種蒸發物質（zhì）同（tóng）時蒸發到基材上的真空蒸發（fā）。

2.1.2蒸發場蒸發:從蒸發場同時蒸發出來的材（cái）料沉積在基片上的真空蒸發過程(該（gāi）過程應用於（yú）大規模蒸發，以達到理想的膜厚分（fèn）布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與氣體反應而達到理想化學成分的真（zhēn）空（kōng）蒸發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸發（fā）蒸（zhēng）發器反應真空蒸發:與蒸發器內各種蒸發物質發生反應，得到理想化學成分膜層材料的真空蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸（zhēng）發所需的（de）熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通過感應渦流（liú）加熱使物料蒸發。

2.1.7電子束蒸發:通過電子轟擊加熱材料的蒸發。