離子源電源理想的磁場設計

離子源電源理想的磁場設計體現為：一方麵盡可能擴大磁場橫向分量的麵（miàn）積與強度，另一方麵樶大程（chéng）度（dù）的控製和限製弧斑的運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用的離子鍍弧源應具備以下幾點特性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束（shù）合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧（hú）斑細膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向（xiàng）工（gōng）件輸運的等離子體通量足夠。

真空鍍膜電源技術的離子源電（diàn）源（yuán）：提高工具、模具的加工質量和使用壽命一直是人們不斷探索的（de）課題。電弧離子鍍技術（shù）是一（yī）種工模具材（cái）料表麵改性（xìng）技術，具有離化率高、可低溫沉（chén）積、膜層質量（liàng）好以及沉積速率快等其他鍍膜（mó）方式（shì）所不具備的優勢，已在現代工具以及各種模（mó）具的表麵防護取得了理想的應用效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存（cún）在限製了工模具塗層技術（shù）的進一步應用，也成為後期（qī）電弧離（lí）子鍍技術發展的主要論題。

離子鍍弧源是電弧等離子體放電的源（yuán）頭，是離子鍍技（jì）術（shù）的關鍵部（bù）件（jiàn）。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰（yīn）極弧源，這種（zhǒng）弧源（yuán）中電弧的行為被陰極表（biǎo）麵（miàn）許（xǔ）多快速遊動、高度明亮的陰極（jí）斑點（diǎn）所控製（zhì）。在發展和完（wán）善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點運動的有效控製至關重要，因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的（de）有效利用（yòng）、大顆粒的去除、薄膜質量的改善（shàn）等諸多關鍵問題的解決（jué）。國內外一直致力於這（zhè）方麵的（de）工作，研究熱點（diǎn）主要集中在磁場控製的弧源設計上。由（yóu）於真空鍍膜電源電弧的物理特性，外加電磁（cí）場是控製弧（hú）斑運動（dòng）的有效方法，目前（qián）所有的磁場設計都是考（kǎo）慮在靶麵形成（chéng）一定的磁場位形（xíng），利用銳角（jiǎo）法則限製（zhì）弧斑的（de）運動軌跡，利用橫（héng）向分量提高弧斑的運動速度。